【生物化学】嘌呤核苷酸从头合成时首先生成的是

　　A.GMP

　　B.AMP

　　C.IMP

　　D.ATP

　　E.GTP

　　学员提问：老师，请问其全过程？

　　答案与解析：本题的正确答案是Ｃ。

　　嘌呤核苷酸从头合成从5’-磷酸核糖开始，首先生成IMP。IMP合成途径可分为二段11步反应，第一阶段生成5’-磷酸核糖-1’-焦磷酸（PRPP）。第二阶段生成IMP。IMP的生成过程：PRPP在谷氨酰胺PRPP酰胺基转移酶作用下生成5’-磷酸核糖胺，在甘氨酰胺核苷酸合成酶作用下生成甘氨酰胺核苷酸，在转甲酰基酶作用下生成甲酰甘氨酰胺核苷酸，在甲酰甘氨咪核苷酸合成酶作用下，生成甲酰甘氨咪核苷酸，在5-氨基咪唑核苷酸合成酶作用下，生成5-氨基咪唑核苷酸，在5-氨基咪唑核苷酸羧化酶作用下，生成5-氨基咪唑-4-羧酸核苷酸，在N-琥珀酰-5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸合成酶作用下，生成N-琥珀酰-5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸，在腺苷酸代琥珀酸裂解酶作用下生成5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸，在5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸转甲酰基酶作用下，生成5-甲酰胺基咪唑-4-甲酰胺核苷酸，在IMP合酶作用下，生成次黄嘌呤核苷酸（IMP）。

　　【药理学】能降低糖耐量：

　　A.螺内酯

　　B.呋塞米

　　C.氢氯噻嗪

　　D.氨苯蝶啶

　　E.甘露醇

　　学员提问：老师，请解释？

　　答案与解析：本题的正确答案是Ｃ。

　　氢氯噻嗪不良反应：

　　1．电解质紊乱 如低血钾、低血镁、低氯碱血症等。

　　2．潴留现象 如高尿酸血症、高钙血症，主要是药物减少细胞外液容量，增加近曲小管对尿酸的再吸收所致，痛风者慎用。

　　【流行病学】相对危险度（RR）是队列研究中反映暴露与发病（死亡）关联强度的指标,下列说法哪一个是正确的

　　A.RR95％可信区间（CI）的上限>1,认为暴露与疾病呈“正”关联，即暴露因素是疾病的危险因素

　　B.RR95％CI的下限1，认为暴露与疾病呈“负”关联，即暴露因素是保护因素

　　D.RR95％CI包括1，则认为暴露因素与疾病有统计学联系

　　E.RR95％CI包括1，则认为暴露因素与疾病无统计学联系

　　学员提问：老师谢谢您，请问此题如何分析？

　　答案与解析：本题的正确答案是Ｅ。

　　由此可知RR95％CI包括1，则认为暴露因素与疾病无统计学联系。

　　【卫生统计学】方差分析中有

　　A.F值不会是负数

　　B.F值不会小于1

　　C.F值可以是负数

　　D.组间MS不会小于组内MS

　　E.组间SS不会小于组内SS

　　学员提问：老师，请问为什么？

　　答案与解析：本题的答案是Ａ。

　　方差分析中计算的离均差平方和SS是正值，MS＝SS/υ，而F＝MS_组间/MS_组内，所以F值的取值范围为0～+∝，MS_组间与MS_组内没有确定的大小关系。

　　计算出统计量F值，以自由度υ组间与υ组内查方差分析用的F界值表，找出F_α，根据计算出的F值与F_α相比较，如果F＞F_α，则有p＜α；如果F＜F_α，则有p＞α。作出统计推断。

　　【生理学】绝对不应期出现在动作电位的哪一时相：

　　A.峰电位

　　B.负后电位

　　C.正后电位

　　D.除极相

　　E.恢复相

　　学员提问：什么是峰电位？峰电位的离子基础是什么？

　　答案与解析：本题的正确答案是Ａ。

　　动作电位全过程包括锋电位和后电位两大部分。锋电位（spike potential）在刺激后几乎立即出现，其幅度为静息电位与超射值之和，并服从全或无定律和非递减性传导。后电位（after potential）：锋电位过后即为历时较长的后电位：先为负后电位，历时约15毫秒，其幅度约为锋电位的5～6％，正后电位（positive after potential）其幅度仅为锋电位的0.2％。

　　锋电位的离子基础是钠通道开放，钠离子的大量内流。

　　【劳动卫生与职业病学】氮氧化物中毒的急性临床表现主要是

　　A.刺激呼吸道深部，引起咳嗽、咳痰

　　B.致肺水肿

　　C.引起呼吸道炎症及肺炎

　　D.迷走神经反射性心跳骤停

　　E.以上都不是

　　学员提问：老师，为什么？谢谢

　　答案与解析：本题的答案是Ｃ。

　　氮氧化物急性吸入可致化学性气管炎、化学性肺炎，严重时可致化学性肺水肿。

　　刺激呼吸道深部，引起咳嗽、咳痰，是气管炎和肺炎的具体表现，可以出现在急性期，也可以出现在慢性期，而导致肺水肿是氮氧化物重度中毒的表现。

　　根据最优选项原则，所以本题的答案是Ｃ。

　　09年公卫执业助理医师《答疑周刊》第17期word文档下载